Publicación: Efecto de la concentración y tiempo de aplicación del ácido fluorhídrico en la resistencia de unión a la cerámica disilicato de litio. Estudio in vitro
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Objetivo: Este estudio tiene la finalidad de evaluar el efecto de la concentración y tiempo de aplicación del ácido fluorhídrico (HF) sobre la resistencia de unión, en cerámicas de disilicato de litio (LS2). Materiales y Métodos: Se confeccionaron 72 discos de LS2, e.max Press (Ivoclar Vivadent) de 15mm de diámetro y 1mm de espesor. Los especímenes se dividieron en 9 grupos (n = 8) según su forma de aplicación (tiempo y concentración del HF), a mitad de tiempo recomendado por el fabricante M5%, M9% y M10%, al tiempo recomendado por el fabricante F5%, F9% y F10% al doble de tiempo recomendado por el fabricante, D5%, D9% y D10%. En todos los discos se siguió el mismo proceso de adhesión para colocar 4 cilindros de cemento resinoso con un diámetro de 0.8 mm y un largo de 2 mm, por cada disco. Se llevó a cabo la prueba de resistencia de unión en una máquina de ensayo universal (Odeme, São Carlos, Brasil), con una velocidad de carga de 1mm/min. Resultados Los resultados de media y desviación estándar evidenciaron el mayor valor para la concentración de HF 9% y el grabado ácido al doble de tiempo de fabricante (12.26 Mpa +/-3.61). Los resultados para la prueba de ANOVA, mostraron unas diferencias significativas (p<0.05) entre los tiempos de aplicación de HF 5% (p=0.01) y al 9% (p=0.01), evidenciando una influencia significativa en el tiempo de aplicación de HF sobre la resistencia de unión. La prueba de Post Hoc Tukey para evaluar los tiempos establecidos en cada concentración, demostró que al doble de tiempo de aplicación de HF 9%, incrementa significativamente resistencia de unión comparado con la mitad de tiempo aplicación y tiempo de aplicación recomendado por el fabricante (p<0.05). Para la evaluación de la variable concentración en cada tiempo, el ác. HF 9% obtuvo el mayor valor de resistencia de unión en los 3 tiempos evaluados, con una diferencia estadísticamente significativa sobre las concentraciones de HF 5% y HF 10% (p<0.05). Conclusiones: El doble de tiempo de aplicación del HF 9%, incrementa significativamente la resistencia de unión en la cerámica de LS2. No hubo una mejora resistencia de unión en la cerámica de LS2 cuando se incrementó el tiempo de aplicación para el HF 5% y HF 10%.
Resumen
Objectives: The purpose of this study is to define the effect of concentration and time of hidrofluoric acid (HF) application on the bond strength in lithium disilicate ceramics (LS2). Methods: Seventy-two disks of lithium disilicate e.max Press (Ivoclar Vivadent) of 15 mm diameter and 1mm thickness were made. The discs were divided into 9 groups (n = 8) according to their application form, one half manufacturer application time M5%, M9% and M10%, manufacture application time F5%, F9% and F10%, double manufacturer application time, D5%, D9% and D10%. The same adhesion process was used to place 4 cylinder of resin cement, bond strength test was made in a universal test machine Results: The results of the media and the standard deviation showed the highest value for HF 9% acid and double manufacturer time (12.26 Mpa +/- 3.61). (P = 0.01) and 9% (p = 0.01), evidencing a significant influence on the application time of HF over bond strength. The Post Hoc Tukey test to evaluate the times established at each concentration, demonstrating that double manufacturer application time in the HF 9% acid group, increased bond strength significantly compared to half application time and manufacturer recommended application time (p <0.05). The evaluation of the concentration variable at each time, HF9% acid obtained the highest value of bond strength in the 3 evaluated times, with a statistically significant difference on HF 5% acid and HF 10% acid (p <0.05). Conclusions: Double manufacturer application time HF 9% acid significantly increases the bond strength in LS2 ceramic. There was no bond strength improvement in LS2 ceramic when the application time was increased for HF 5% and HF 10% acid.